
尽管两者都属于二极管范畴,但在材料、结构、物理机制等方面存在根本性差异。这些差异决定了它们在实际工程中的不同表现。
功率二极管:通常采用硅(Si)材料,经过掺杂形成P型和N型半导体区域,通过扩散或外延工艺制造。其结构设计注重耐压与散热能力,常配有金属外壳或散热片。
肖特基二极管:采用金属(如铝、铂)与重掺杂半导体(通常是N型硅)直接接触形成肖特基势垒。制造过程中需精确控制金属沉积厚度与界面质量,以避免漏电流过大。
由于肖特基二极管具有极快的开关速度,能够有效减少开关损耗,从而降低电磁干扰(EMI)。这使其特别适用于对电磁兼容性要求高的消费类电子产品中。相比之下,功率二极管的反向恢复过程会产生瞬态电流尖峰,容易引发噪声问题。
功率二极管因技术成熟、生产规模大,成本较低,适合大批量工业应用。肖特基二极管虽价格略高,但随着高频电源普及,其成本已大幅下降,尤其在高端电源模块中已成为标准配置。
案例1:数据中心服务器电源
案例2:电动汽车车载充电机(OBC)
随着碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等宽禁带半导体材料的发展,新一代肖特基二极管(如SiC Schottky)正逐步替代传统硅基器件,具备更高的耐压、更低的损耗和更优的高温性能。未来,功率二极管与肖特基二极管的界限将进一步模糊,融合型器件将成为主流。
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